Im Gegensatz zu optischen Verfahren, die durch Farbe oder Trübung beeinflusst werden, leitfähigkeitsbasierten Verfahren, die empfindlich auf elektrische Leitfähigkeit reagieren, oder dichtebasierten Verfahren, die durch Temperatur oder Gasblasen gestört werden können, ist unser Ultraschall-Verfahren unabhängig von diesen Einflüssen.

Die LiquiSonic® Messtechnik enthält zudem weder bewegliche Teile noch Komponenten, die verschleißen oder verbraucht werden können. Nach der Installation ist das Messsystem daher vollständig wartungsfrei und driftfrei.

Die Sensoren bieten digitale Signalübertragung bis zu 1000 m und ermöglichen kontinuierliche Inline-Messung ohne Probenentnahme.

Unser System nutzt die Ultraschall-Laufzeitmessung zur Bestimmung der Schallgeschwindigkeit in Flüssigkeiten. Diese Schallgeschwindigkeit korreliert direkt mit der chemischen Konzentration und ermöglicht Messgenauigkeiten von bis zu ±0,02 wt% für die Halbleiterindustrie. Die integrierte Temperaturkompensation gewährleistet stabile Ergebnisse auch bei schwankenden Prozessbedingungen.

Das System liefert Ergebnisse in Echtzeit. Es werden über 30 Messungen pro Sekunde durchgeführt. Basierend auf diesen Messungen erhalten Sie jede Sekunde einen aktuellen Messwert. Diese schnelle Reaktionszeit ermöglicht eine effektive Prozessregelung und eine frühzeitige Erkennung von Abweichungen.

LiquiSonic^® kann zur Inline-Konzentrationsmessung in verschiedenen nasschemischen Halbleiterprozessen eingesetzt werden, zum Beispiel in SC1/APM, SC2/HPM, SPM/Piranha, DHF, BOE/BHF, TMAH-basierten Entwicklungsprozessen sowie in ausgewählten Ätzprozessen mit HF, H₃PO₄, KOH oder HNO₃. Die konkrete Auslegung hängt von Medium, Konzentrationsbereich, Temperatur, Druck und Prozessaufbau ab.

Ja, LiquiSonic^® ermöglicht die kontinuierliche Überwachung chemischer Konzentrationen in SC1- und SC2-Prozessen direkt im laufenden Prozess. Dadurch werden Konzentrationsabweichungen früh sichtbar, sodass Rezepturen stabiler eingehalten und Reinigungsprozesse besser kontrolliert werden können.

Ja, BOE- und BHF-Prozesse auf Basis von HF und NH₄F können mit LiquiSonic^® inline überwacht werden. Besonders bei sensiblen Ätzprozessen hilft die kontinuierliche Konzentrationsmessung dabei, Prozessfenster stabil zu halten und Schwankungen frühzeitig zu erkennen.

Ja, LiquiSonic^® kann in bestehende Nassprozessanlagen, Wet Benches oder Versorgungssysteme integriert werden. Die Anbindung erfolgt abhängig vom Anlagenaufbau über geeignete Prozessanschlüsse und industrielle Schnittstellen wie 4–20 mA, Profibus, Ethernet, Modbus oder Feldbus.

Unsere Halbleiter-Sensoren arbeiten zuverlässig in einem Temperaturbereich von 5 °C bis 60 °C und Drücken bis zu 4 bar.

Ja, durch Kombination der Schallgeschwindigkeitsmessung mit zusätzlichen physikalischen Größen (z. B. Leitfähigkeit) können mehrere Komponenten gleichzeitig bestimmt werden. So lassen sich auch weitere Zusatzstoffe in der Halbleiterfertigung überwachen.

Das Halbleiter-Messsystem ist vollständig wartungsfrei. Es gibt keine mechanischen Verschleißteile, Dichtungen oder optische Fenster, die angegriffen werden könnten. Eine regelmäßige Kalibrierung ist nicht erforderlich - die LiquiSonic® Sensoren bleiben über Jahre stabil.

Das System bietet verschiedene digitale Schnittstellen (z. B. Profibus, Ethernet / IP, Foundation Fieldbus) sowie analoge 4-20 mA Ausgänge. Die Integration erfolgt problemlos über standardisierte Protokolle.

Die Schallgeschwindigkeit einer Flüssigkeit ist temperaturabhängig. LiquiSonic^® erfasst deshalb neben der Schallgeschwindigkeit auch die Prozesstemperatur und kompensiert Temperatureinflüsse automatisch. So bleiben die Konzentrationswerte auch bei Temperaturschwankungen stabil und zuverlässig.